- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteurs; matériaux à cet effet; originaux à cet effet; appareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 1/62 - Pellicules, p.ex. assemblage de pellicules ayant une membrane sur un cadre de support; Leur préparation
Détention brevets de la classe G03F 1/62
Brevets de cette classe: 531
Historique des publications depuis 10 ans
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2015 | 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 |
Propriétaires principaux
Proprétaire |
Total
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Cette classe
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ASML Netherlands B.V. | 6816 |
134 |
Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 36809 |
65 |
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5132 |
48 |
Mitsui Chemicals, Inc. | 3134 |
44 |
Samsung Electronics Co., Ltd. | 131630 |
37 |
ASML Holding N.V. | 542 |
14 |
Fine Semitech Corp. | 22 |
13 |
IMEC VZW | 1410 |
9 |
Research & Business Foundation Sungkyunkwan University | 1640 |
8 |
Carl Zeiss SMT GmbH | 2646 |
7 |
IUCF-HYU (Industry-University Cooperation Foundation Hanyang University) | 1115 |
7 |
International Business Machines Corporation | 60644 |
6 |
Applied Materials, Inc. | 16587 |
6 |
NGK Insulators, Ltd. | 4589 |
6 |
Air Water Inc. | 135 |
6 |
Kaneka Corporation | 4445 |
5 |
Photronics, Inc. | 47 |
5 |
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology | 3677 |
4 |
Asahi Kasei E-materials Corporation | 222 |
4 |
Industry-University Cooperation Foundation Hanyang University | 1001 |
4 |
Autres propriétaires | 99 |